等离子去胶机的原理是什么？

      等离子去胶机低温等离子去胶法，去胶汽体为o2。其基本工作原理是将硅片放置真空泵反映系统软件中，进入小量o2，加1500 V髙压，由高频率频率计造成高频率数据信号，使石英加热管内产生强的磁场，使o2水解，产生氧离子、活性的氧分子、氧原子和電子等化合物的等离子体的辉光线。活性氧（开朗的分子态氧）可以快速地将聚酰亚胺膜空气氧化变成可挥发物汽体，被真空泵吸走，那样就把硅片上的聚酰亚胺膜去除开。

      等离子去胶机的特点是去胶操作简单、去胶效率高、表面干净光洁、无划痕、成本低、环保电解介质低温等离子体刻蚀设备一般应用电容耦合等离子体平行面板管式反应器。在平行面电级管式反应器中，反映正离子刻蚀箱体选用了阴极总面积小，阳极氧化总面积大的不对称设计方案，被刻蚀物是被放置总面积较小的电级上。在射频电源所形成的热运动功效下带负电荷的随意电子因质量小、运动速度快，很快到达阴极；而共价键则因为品质大，速度比较慢不可以在同样的時间内抵达阴极, 进而使阴极周边产生了带负电荷的鞘层。

      共价键在鞘层的加快下，竖直负电子硅片表面，加速表面的化学变化及反映反应物的摆脱，造成很高的刻蚀速度。离子轰击也使各种各样刻蚀得到完成等离子体去胶的基本原理和等离子体刻蚀的机理是一致的。不一样的是反映汽体的品种和等离子体的激起方法。